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问:当前大模型进入“办事时代”面临的主要挑战是什么? 答:从技术角度看,晶圆级封装(WLP)直接在整片晶圆上进行封装,需要光刻技术定义布线层,精度要求达到纳米级;Chiplet 封装技术中,不同芯粒的“互连”需要超细线路,必须用光刻技术实现 “凸点”“ 重布线层” 的高精度制造;3D IC 封装技术中,芯片垂直堆叠后,通孔(TSV)的加工也需要光刻辅助定位。
最新发布的行业白皮书指出,政策利好与市场需求的双重驱动,正推动该领域进入新一轮发展周期。
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问:大模型进入“办事时代”对行业格局会产生怎样的影响? 答:03 生态的力量:模型、数据与工具的协同效应
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